提金树脂工艺 适用的行业范围包括：
1.镀金液(氰化金和氰化亚金溶液)中金的回收
2.各种PCB电路板脱金液体(可以是碱性也可以是酸性)中金的回收
3.黄金矿山堆浸和池浸工艺中含金贵液和贫液的吸附
4.各种溶金液体(王水或氯化金液等)中金的吸附




提金树脂工艺 强碱型软化树脂在含高盐地下水处理工艺应用　　可以通过津达强碱型软化树脂除去; 呈吸附状态的硅酸化合物，般可以经 过滤除去; 呈不安定的胶体硅颗粒直径 100 -800 之间，添加树脂处理方法的除硅效果各种成分又会交叉影响系统正常运行，所以, 解硅在地下水中存在形态是非常重要的。
　　地下水中硅的存在形态及处理方法
　　天然水中硅酸化合物主要有以下四种形态：
　　1、 呈分子、 离子状态;　　2、 呈吸附状态;　　津达强碱性软化树脂处置地下水应用方法方法
　　地下水活性炭过滤出水、电渗析出水、大孔弱碱树脂柱出水、凝胶强碱树脂柱出水、混床出水、能发挥交换作用的佳pH：为 pH < 9; 而在 pH < 9 时, 硅酸主要以分子态存在, 所以大 孔弱碱对硅酸没有去除能力。 强碱阴树脂对 硅的去除几乎 , 这说明预处置手段选择得当, 不致形成胶体硅, 水中硅的形态主要 以离子态存在, 混床除硅更加*。
　　电渗析没有去除硅能力; 大孔离子交换树脂对分子、 离子态硅不吸附、 交换; 津达强碱型软化树脂对离 子 态 硅 去 除 率 接 近 ;混床可去除残留硅, 惯例分析硅含量未 其中分子、离子状态的称为活性硅 或可 溶性硅 , 其余三者统称为非活性硅 或不溶，性硅活性硅溶于水中, 比胶体硅小得多, 因此不能除去胶体硅, 活性炭对胶体硅具有一定的吸附 能力, 活性炭吸附柱除胶体硅能力较一般过滤介质大得多。通过实践分析结果数据可看出, 去除硅主要靠强碱阴树脂, 津达大孔离子交换树脂除硅能力几乎为零, 这主要是两个条件制约, 大孔弱碱处置后水中硅含量未检出31 呈不安定的胶体状态; 41 呈较安定的粗粒。
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去离子水树脂故障的排查与解决方法　　石英砂垫层乱层
　　交换器底部选用石英砂垫层时，因反洗操作不当或积污，会造成石英砂层结块;若反洗水从局部冲出则会造成石英砂垫层乱层。
　　石英砂垫层下面的穹型多孔板的中心，应不开孔，以避免底部进水流速过高冲乱石英砂层。如果穹型板是全部开孔的，可以在穹型多孔板下面加装挡板，但是，不可使用缝隙式喷水头或多孔式花篮，因为它们的出水流速太高，距穹型板又近，仍然会使水流集中于局部小孔喷出，冲乱石英砂层。
　　石英砂垫层应严格按照级配逐层铺垫，每层的厚度必须均匀。在装入树脂前，可以进行反洗试验，要求在流速达到40-60m/h时，石英砂垫层不乱层，不移动。
　　中间排液装置的损坏
　　逆流再生离子交换器的中排装置损坏是常见的故障。中排装置损坏的根本原因是，在树脂层中有气泡或干层的情况下，反洗进水流速过高，树脂层尚未散开，树脂的流动性差，夹在干树脂层中的中间排液装置被向上托起而造成的。在运行中因树脂干层收缩，也会造成中排支管的向下弯曲。
　　在阳床的运行中，树脂层内出现气泡是因为阳床用进口阀门调节流量，交换器在低压(0.1-0.2Mpa)下运行，经交换反应生成的碳酸变为游离的CO2析出，积聚在树脂层内。防止CO2析出的方法是保持交换器在0.4-0.6Mpa压力下运行。此外，如果水泵轴封漏气，也会使空气随水流进入交换器，积在树脂层中。特别应该指出的是设备长期停用或因阀门漏水造成树脂干层时，进水速度一定要缓慢(2-3m/h)，使树脂层中的气泡能慢慢逸出，不得将干树脂层托起。
　　顶部装置的损坏
　　一般下向流运行的交换器(如顺流再生设备、逆流再生设备等)，其顶部装置比较简单，很少损坏。上向流运行的交换器(如浮床、双室浮床等)，运行时容易造成损坏。浮床的顶部装置过去曾使用过母支管式、法兰夹多孔板式、弧形支管式以及体外母管外插式等，经过多年的研究和试验，证明使用孔板水帽式和弧形支管式效果较好。
　　交换器顶部装置损坏的主要原因是树脂层顶部干层，底部进水流速高时，树脂层象活塞一样压向顶部装置造成损坏。防止损坏的方法是先用小流量水流充满树脂层，再加大水的流量。
　　另外一种损坏交换器顶部装置的原因是，采用弱型树脂的浮床，在装填新树脂时，未考虑足够的可逆转型和不可逆膨胀的空间，树脂膨胀时会损坏交换器的顶部装置。
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